一：
濺射鍍膜靶材技術(shù)百科
問題1：影響靶材鍍膜沉積速率的因素有哪些?
答：影響沉積速率的因素有很多,包括工作氣體的種類、工作氣體的壓力、濺射靶的溫度、磁場(chǎng)強(qiáng)度等但是今天,我們要談?wù)動(dòng)绊懘趴貫R射靶材鍍膜沉積速率的3個(gè)重要因素:濺射電壓、電流和功率濺射電壓(V)濺射電壓對(duì)成膜速率的影響有這樣。
問題2：靶材的制作工藝
答：若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今，常用的有電子回旋共振(ECR）型微波等離子體濺射。2）磁控濺射靶材種類：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物。
問題3：什么是PVD鍍膜靶材?他的原理是什么?
濺射鍍膜靶材答：電弧等離子鍍,離子鍍等PVD膜沉積速度快,附著力強(qiáng),衍射性好,應(yīng)用范圍廣PVD鍍膜靶材的基本原理物理氣相沉積技術(shù)的基本原理可以分為三個(gè)處理步驟:(1)鍍層材料的氣化,即鍍層材料蒸發(fā),不類似濺射(2)電鍍?cè)?分子或離子的。
問題4：直流磁控濺射鍍膜有哪些特點(diǎn)有利于哪些薄膜材料的
答：1）靶中毒。在金屬靶面形成的導(dǎo)電性較差的化合物層不僅會(huì)造成濺射速率及薄膜沉積速率的降低，還會(huì)引起濺射工況的變化以及薄膜結(jié)構(gòu)、成分的波動(dòng)。2）陽極消失。從靶材濺射出來的物質(zhì)將會(huì)在陽極表面沉積出相應(yīng)的化合物，阻塞電荷。
問題5：真空磁控濺射鍍膜工藝如何選用靶材與氣體?
濺射鍍膜靶材答：鎳靶的話，一般都是用氬氣吧。顏色靠你控制鍍膜速率跟充氣量來決定的。不過鍍玻璃膜的話好像不是用磁控濺射的吧，需要半透效果？如果是光學(xué)鍍膜的話，那就要根據(jù)光波來決定了，不同的波段所呈現(xiàn)出來的顏色是不一樣的。
問題6：磁控濺射膜是什么意思另外是不是金屬膜都是采用磁控濺射技術(shù)的
答：(5)較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。(6)濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。(7)基板與膜的附著強(qiáng)度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會(huì)繼續(xù)表面擴(kuò)散而得到硬且致密的薄膜。
問題7：真空鍍膜時(shí)濺射出來的靶材原子離化后帶何種電性
答：濺射出來的靶材，并不一定是單個(gè)離子狀態(tài)，應(yīng)該是團(tuán)狀為主的。所以在經(jīng)過電離區(qū)時(shí)，單個(gè)原子如果被電離的話肯定是正離子，團(tuán)狀的話也有可能吸收電子而帶負(fù)電荷的。
問題8：磁控濺射鍍膜與蒸發(fā)鍍膜的區(qū)別
答：前者為離子轟擊靶材,然后靶材物質(zhì)濺射,沉積在基片上后者物質(zhì)加熱,達(dá)到熔點(diǎn),再達(dá)到沸點(diǎn),蒸發(fā)至基片上。
問題9：蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜有什么區(qū)別
答：舉個(gè)通俗栗子來形容蒸發(fā)鍍膜~天氣比較冷的時(shí)候，對(duì)著鏡子哈氣，鏡子表面會(huì)凝結(jié)一層水膜，可以理解為水蒸氣遇冷變態(tài)~氣態(tài)變液態(tài)，再冷便固態(tài)！濺射鍍膜~不管氣溫怎樣，只管啪啪啪！液體四濺，最好啪啪成及其細(xì)小的水霧。
問題10：真空濺射鍍膜機(jī)器可放幾種靶材?
答：有一般至少可以放兩個(gè)這要看你的鍍膜機(jī)的真空罩的大小之后沒有濺射的相干就可以了。
二：
濺射鍍膜靶材技術(shù)資料
問題1：磁控濺射鍍膜與蒸發(fā)鍍膜的區(qū)別
答：前者為離子轟擊靶材，然后靶材物質(zhì)濺射，沉積在基片上。后者物質(zhì)加熱，達(dá)到熔點(diǎn)，再達(dá)到沸點(diǎn)，蒸發(fā)至基片上。
問題2：磁控濺射鍍膜與蒸發(fā)鍍膜的區(qū)別
濺射鍍膜靶材答：前者為離子轟擊靶材,然后靶材物質(zhì)濺射,沉積在基片上后者物質(zhì)加熱,達(dá)到熔點(diǎn),再達(dá)到沸點(diǎn),蒸發(fā)至基片上。
問題3：石英片磁控濺射鍍膜在使用,技術(shù)等方面有什么注意事項(xiàng)?
答：使用靶材時(shí)的注意事項(xiàng):1、靶材的外形尺寸要與機(jī)器要求的設(shè)計(jì)一致;2、靶材外表與內(nèi)在清潔度要高,是在潔凈室內(nèi)加工制成的;3、靶材的質(zhì)量可據(jù)合同要求定制(高純度9999%、高密度、低氣體含量,尺寸(銀靶材約127×178×7mm。
問題4：磁控濺射時(shí)對(duì)顯示屏玻璃鍍膜時(shí)的靶材是什么?要求這種膜度在外面起
答：您好：您問的這個(gè)問題可是我見到的最專業(yè)的膜的問題，我們知道目前最好的玻璃膜就是真空磁控濺射膜，磁控濺射的形式不同，可原理應(yīng)該是一樣的，就是把金屬或說是稀有金屬濺射到PET基材上，可以是一層和多層。要均勻分布才能。
問題5：靶材的介紹
答：鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同。
問題6：磁控濺射靶材鋁靶,磁控濺射時(shí)靶材短路,開蓋后發(fā)現(xiàn)靶材嚴(yán)重變形并且靶
答：由于純鋁的熔點(diǎn)很低，只有660攝氏度，不但在外力的作用下靶材變形，局部還會(huì)達(dá)到熔點(diǎn)，形成溶洞；2。即便靶材不短路，如果冷卻系統(tǒng)出現(xiàn)問題鋁靶材也容易變形；3磁控濺射鍍膜電源保護(hù)性功能差，超載后不能及時(shí)自動(dòng)停止工作。
問題7：磁控濺射設(shè)備用什么靶材能鍍出紅色?
答：1銅靶氬氣濺射紅銅本色2銅靶氬氣+氧氣濺射暗紅色3鐵靶（不銹鋼靶）氬氣+氧氣濺射紫紅色4鉻靶氬氣+氧氣橘紅色差不多了吧，隨著你使用的氣體比例不同，顏色可能略有差別，建議你慢慢的加氧氣含量，就。
問題8：真空濺射鍍膜要度有顏色的膜如鈦金、玫瑰金、玫瑰紅、紫金需要什么靶材
濺射鍍膜靶材答：氣體只有幾種，如氬氣氮?dú)庖胰惭鯕?，靶材就鈦靶和鋯靶！?shù)據(jù)只是參考，經(jīng)驗(yàn)是數(shù)據(jù)重要！不懂打我公司電話0577-86312296。
問題9：為什么濺射鍍膜利用磁鐵會(huì)提高靶材利用率
答：應(yīng)該根據(jù)磁力推射原理我是做磁鐵的經(jīng)常有鍍膜機(jī)上面的客戶。
問題10：磁控濺射鍍膜為什么是一種低溫沉積技術(shù)
濺射鍍膜靶材答：因?yàn)榇趴貫R射鍍膜是通過氣體離子去轟擊靶材，將其原子打出再沉積到基板上，這個(gè)過程中濺射出來的粒子多呈原子態(tài)，而且有較大的能量，但是濺射過程中溫度升高不明顯，所以稱為低溫沉積技術(shù)，另外，這和蒸發(fā)鍍膜等其他需要高溫的。
三 ：