一：
真空氣相沉積技術(shù)百科
問題1：化學(xué)氣相沉積如何分類?
答：化學(xué)氣相沉積可以按照沉積工藝和原料進(jìn)行分類。按照工藝來分，可以分為：金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積技術(shù)(MOCVD)、等離子化學(xué)氣相沉積(PCVD)、激光化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積、超真空化學(xué)氣相沉積、超聲波化學(xué)氣相沉積(UWCV）。
問題2：氣相沉積CVD有哪些分類
真空氣相沉積答：CVD技術(shù)是化學(xué)氣相沉積ChemicalVaporDeposition的縮寫?；瘜W(xué)氣相沉積乃是通過化學(xué)反應(yīng)的方式，利用加熱、等離子激勵或光輻射等各種能源，在反應(yīng)器內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。
問題3：化學(xué)氣相沉積原理
答：化學(xué)氣相沉積法之所以得到發(fā)展，是和它本身的特點(diǎn)分不開的，其特點(diǎn)如下：（1）沉積物種類多:可以沉積金屬薄膜、非金屬薄膜，也可以按要求制備多組分合金的薄膜，以及陶瓷或化合物層。（2）CVD反應(yīng)在常壓或低真空進(jìn)行，鍍膜。
問題4：物理氣相沉積的詳述
真空氣相沉積答：(一)真空蒸鍍原理(1)真空蒸鍍是在真空條件下，將鍍料加熱并蒸發(fā)，使大量的原子、分子氣化并離開液體鍍料或離開固體鍍料表面(升華)。(2)氣態(tài)的原子、分子在真空中經(jīng)過很少的碰撞遷移到基體。(3)鍍料原子、分子沉積在。
問題5：什么是物理氣相沉積?真空渡鋁是不是其中的一種應(yīng)用?
答：英文指"phisicalvapordeposition"簡稱PVD是鍍膜行業(yè)常用的術(shù)語PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應(yīng)于PVD技術(shù)的三個分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空。
問題6：化學(xué)氣相沉積爐真空抽不到位怎么辦
答：首先檢驗一下整個系統(tǒng)的密封性；如若密封性良好的話，其次再檢查一下真空泵的情況，看看這個泵是否真的能達(dá)到要求的真空度。如果泵本身就達(dá)不到要求的話建議更換真空泵，或者用氮?dú)猓ɑ蚱渌c實驗有關(guān)的惰性氣體）多次沖洗的。
問題7：PVD-物理氣相沉積與電鍍中的真空鍍膜是否有區(qū)別?
真空氣相沉積答：PVD真空鍍膜:PhysicalVaporDeposition簡稱PVD，物理氣象沉淀就是真空鍍膜技術(shù)的一種說法!主要有離子、蒸發(fā)、濺射鍍膜等幾種方式的。電鍍:現(xiàn)在真空鍍膜有很多人都稱之為真空電鍍，其實就是鍍膜的。如果單說電鍍的話就是那種。
問題8：PVD-物理氣相沉積與電鍍中的真空鍍膜是否有區(qū)別?
答：PVD真空鍍膜：PhysicalVaporDeposition簡稱PVD，物理氣象沉淀就是真空鍍膜技術(shù)的一種說法！主要有離子、蒸發(fā)、濺射鍍膜等幾種方式的。電鍍：現(xiàn)在真空鍍膜有很多人都稱之為真空電鍍，其實就是鍍膜的。如果單說電鍍的話。
問題9：電子束蒸發(fā)是一種物理氣相沉積(PVD)技術(shù),他的優(yōu)缺點(diǎn)是什么?
答：電子束蒸發(fā)是一種物理氣相沉積(PVD)技術(shù),它在真空下利用電子束直接加熱蒸發(fā)材料(通常是顆粒),并將蒸發(fā)的材料輸送到基板上形成一個薄膜電子束蒸鍍可以鍍出高純度、高精度的薄膜電子束蒸發(fā)應(yīng)用電子束蒸發(fā)因其高沉積速率。
問題10：物理氣相沉積溫度為什么要高
答：物理氣相沉積是在高真空容器中，Ti受熱蒸發(fā)，蒸發(fā)出來的原子與通入工作室中的氣體相遇（按比例），并被離子激活，在工件負(fù)偏壓吸引下，以較大能量射向工件表面，形成TiC或TiN沉積層，層厚一般為1～3mm，TiN的沉積層表面硬度。
二：
真空氣相沉積技術(shù)資料
問題1：原子層沉積和化學(xué)氣相沉積有什么不同
答：目前，化學(xué)氣相淀積已成為無機(jī)合成化學(xué)的一個新領(lǐng)域。特點(diǎn)1)在中溫或高溫下，通過氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學(xué)反應(yīng)而形成固體物質(zhì)沉積在基體上。2)可以在常壓或者真空條件下(負(fù)壓“進(jìn)行沉積、通常真空沉積膜層質(zhì)量較好)。
問題2：高溫真空爐(2000度左右)和大型氣相沉積爐大約價值是多少?
答：大型氣相沉積爐一臺規(guī)格大約為5米高，2-3米的直徑150-220溫真空爐溫度在2000度左右，高3米，寬3米左右要看有求450--1500。
問題3：pvd是什么意思
答：物理氣相沉積的簡稱。物理氣相沉積(PhysicalVapourDeposition，PVD)技術(shù)表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積。
問題4：真空電鍍水電鍍PVD之間有什么區(qū)別
答：PVD是一個大的概念詞，即是物理氣相沉積，真空電鍍是pvd工藝之一。真空電鍍分塑膠和五金真空電鍍，又分普通和UV真空電鍍。是在真空爐里鍍上一層金屬層。而水電鍍是在水里發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)，通過陰陽兩極往電鍍件上附著一層。
問題5：CVD(化學(xué)氣相沉積)的原理及應(yīng)用是什么
真空氣相沉積答：其含義c是氣3相中3化1學(xué)反5應(yīng)的固體產(chǎn)物沉積到表面。CVD裝置由下k列部件組成；反7應(yīng)物供應(yīng)系統(tǒng)，氣3相反7應(yīng)器，氣4流傳送系統(tǒng)。反6應(yīng)物多為0金屬氯化8物，先被加熱到一g定溫度，達(dá)到足夠高的蒸汽壓，用載氣5（一。
問題6：派瑞林真空鍍膜納米防水的優(yōu)劣性在哪里?
答：Parylene(中文稱:派瑞林、聚對二甲苯，或派拉倫)是對一系列獨(dú)特的高聚物的一個通常的稱呼。這個家庭中基本的成員稱作Parylene，即聚對二甲苯，是一種完全線性的高度結(jié)晶結(jié)構(gòu)的材料。Parylene用獨(dú)特的真空氣相沉積工藝制備，由活性。
問題7：pvd是什么意思
真空氣相沉積答：pvd是物理氣相沉積的意思，是PhysicalVaporDeposition的縮寫。物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下采用物理方法將材料源（固體或液體）表面氣化成氣態(tài)原子或分子，或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面。
問題8：PVD真空鍍膜原理是什么?
答：離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高。
問題9：納米材料制備過程中,真空條件能帶來哪些好處?
答：2化學(xué)方法(1)氣相沉積法利用金屬化合物蒸氣的化學(xué)反應(yīng)合成納米材料。其特點(diǎn)產(chǎn)品純度高，粒度分布窄。(2)沉淀法把沉淀劑加入到鹽溶液中反應(yīng)后，將沉淀熱處理得到納米材料。其特點(diǎn)簡單易行，但純度低，顆粒半徑大，適合制備。
問題10：關(guān)于真空電鍍
答：原理和工藝不同，電鍍是基于電化學(xué)反應(yīng)原理，在含有需鍍金屬離子的溶液中通以直流電，使該金屬離子在陰極（工件）獲得電子變成金屬，沉積在鍍件上，即為鍍層，真空鍍是基于物理氣相沉積原理，使需鍍金屬或氧化物或合金在高。
三 ：