一：
濺射用靶過(guò)濾器濾籃技術(shù)百科
問(wèn)題1：什么是濺射靶材?
答：濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等，亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域，還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。
問(wèn)題2：磁控濺射的好處在哪?
答：70年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。
問(wèn)題3：關(guān)于濺射靶材,鍍膜材料類(lèi)的產(chǎn)品,剛開(kāi)始接觸,如何熟悉產(chǎn)品,從哪方
答：使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射。
問(wèn)題4：濺射靶材的基本信息
答：使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類(lèi)型的濺射薄膜材料無(wú)論在半導(dǎo)體集成電路、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。
問(wèn)題5：濺射和濺射靶材的區(qū)別和用途
答：濺射是一個(gè)過(guò)程名詞，濺射靶材：是指可通過(guò)電流束縛磁場(chǎng)方向轟擊其表面才生離子的材料一般濺射靶材可分為：金屬靶材，非金屬靶材，陶瓷靶等等。
問(wèn)題6：藍(lán)式過(guò)濾器的工作原理
答：管道在安裝時(shí)會(huì)有其它雜物帶入管道，在生產(chǎn)中原材料中也含有雜物。管道里液體經(jīng)過(guò)過(guò)濾器時(shí)它的污物由過(guò)濾器收集到濾網(wǎng)中，在一定的程度時(shí)打開(kāi)殼蓋清理濾網(wǎng)即可。
問(wèn)題7：濺射靶材主要由什么構(gòu)成?綁定背靶起到什么作用?
答：背靶綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來(lái)主要有三種的方式:壓接、釬焊和導(dǎo)電膠靶材綁定常用釬焊,釬料常用In、Sn、In–Sn,一般使用軟釬料的情況下,要求濺射功率小于20W/㎝為什么要綁定背靶？1、防止靶材受熱不勻碎裂。
問(wèn)題8：鉻靶在磁控濺射過(guò)程中表面出現(xiàn)白色或灰黑色顆粒是啥原因,望哪位大俠解
答：基片不干凈?；虬胁牟桓蓛粲谢遥ㄗh每次做貨前洗靶，還有可能爐子不干凈。建議每次做貨前用吸塵器吸干凈。
問(wèn)題9：袋式過(guò)濾器與藍(lán)氏過(guò)濾器有什么區(qū)別
答：袋式過(guò)濾器和藍(lán)式過(guò)濾器的區(qū)別：1、袋式過(guò)濾器采用的是過(guò)濾袋來(lái)攔截雜質(zhì)，而籃式過(guò)濾器采用的是網(wǎng)藍(lán)來(lái)攔截雜質(zhì)。2、過(guò)濾袋可以進(jìn)行更加精確的過(guò)濾，而籃式過(guò)濾器是粗過(guò)濾。3、與網(wǎng)籃對(duì)比之下，過(guò)濾袋更換成本比較大，而。
問(wèn)題10：籃式過(guò)濾器和y型過(guò)濾器有什么區(qū)別
答：一般不用籃式過(guò)濾器；籃式過(guò)濾器的過(guò)濾面積比y形過(guò)濾器大得多，所以，在流體中雜質(zhì)較多的情況下，一般采用籃式過(guò)濾器。y型過(guò)濾器首選意大利or，深圳市得汛科技是他們?cè)谥袊?guó)的總代理，可以去他們官網(wǎng)看看。
二：
濺射用靶過(guò)濾器濾籃技術(shù)資料
問(wèn)題1：磁控濺射鍍膜機(jī)的靶材怎么起弧
答：新靶先裝好，正負(fù)極要開(kāi)路狀態(tài)?？梢杂谜讱W表測(cè)，表針搖到中間位置OK了，靶電源線要接好，當(dāng)然你也可以用萬(wàn)用表量，檢查靶的水路，進(jìn)出水OK，真空度到達(dá)1。0-2PA后開(kāi)始充氬氣，等壓強(qiáng)到2。0~3。0-1PA時(shí)，點(diǎn)靶。
問(wèn)題2：生產(chǎn)高純金屬濺射靶材對(duì)身體有害嗎
答：有靶材中毒的說(shuō)法，但是靶材中毒指的是靶材受到外界環(huán)境影響或者遇到氧化物等致使靶材不能導(dǎo)電等正常使用，不是說(shuō)靶材對(duì)人體有毒。一般靶材對(duì)人沒(méi)有毒的，個(gè)別化合物靶材可能對(duì)人體接觸面有傷害，接觸的時(shí)候注意隔離。
問(wèn)題3：磁控濺射,基底偏壓、靶材自偏壓、極板自偏壓的區(qū)別?大俠,幫幫忙
答：在射頻磁控濺射過(guò)程中，由于電子的遷移速度遠(yuǎn)大于離子的遷移速度，使得正半周期積累到靶上的電子數(shù)量遠(yuǎn)大于負(fù)半周期積累到靶材上的離子數(shù)量，使得射頻磁控濺射過(guò)程中建立負(fù)的靶材自偏壓?；灼珘褐傅氖窃趯?shí)驗(yàn)過(guò)程中為了增強(qiáng)膜。
問(wèn)題4：籃式過(guò)濾器對(duì)管道流量有影響嗎?
答：籃式過(guò)濾器對(duì)管道流量的影響是阻力增大流量減少，因?yàn)榛@式過(guò)濾器的濾網(wǎng)需要阻止顆粒通過(guò)阻力比較大，因此籃式過(guò)濾器需要及時(shí)進(jìn)行清理減少阻力。
問(wèn)題5：真空鍍膜磁控濺射設(shè)備調(diào)灰藍(lán)色要用些什么靶材???而且要不導(dǎo)電,透光率10
濺射用靶過(guò)濾器濾籃答：要求好多哦用3/7鋁鉻靶，透光率沒(méi)有研究。
問(wèn)題6：關(guān)于磁控濺射靶材的問(wèn)題
答：另一個(gè)方案是射頻濺射氧化亞鋅陶瓷靶材，這個(gè)容易控制濺射后沉積膜層的兩元素的比值。但是需要靶材符合兩元素的比之條件，另外，在射頻濺射過(guò)程中，需要嚴(yán)格控制靶材，陶瓷靶濺射過(guò)程中，容易斷裂。還有就是射頻的危害性較大。
問(wèn)題7：磁控濺射對(duì)靶材的要求是什么?
答：金屬靶的話，靶面和背板要平整，兩者之間要絕緣，靶材和mask之間也要絕緣，金屬的純度要高。
問(wèn)題8：離子束濺射用靶材什么要求
答：高純度、高密度、低氣體含量；合金靶或陶瓷靶成分準(zhǔn)確、尺寸精度高，無(wú)裂紋，無(wú)孔洞。上海賀利氏提供多種高純度高致密度靶材，還有專業(yè)的技術(shù)支持。
問(wèn)題9：濾芯過(guò)濾器的工作原理及技術(shù)參數(shù)?
濺射用靶過(guò)濾器濾籃答：三、精密過(guò)濾器的工作原理精密過(guò)濾器是采用成型的濾材，原液通過(guò)濾材，濾渣留在濾材壁上，濾液透過(guò)濾材流出，從而達(dá)到過(guò)濾的目的。成型的濾材有：濾布、濾網(wǎng)、濾片、燒結(jié)濾管、線繞濾芯、熔噴濾芯、微孔濾芯及多功能濾芯。因。
問(wèn)題10：磁控濺射所用的靶材用哪些類(lèi)型,形狀,濺射對(duì)靶材有哪些性能要求_百度
濺射用靶過(guò)濾器濾籃答：1靶材短路后靶材成了負(fù)載，瞬間就會(huì)產(chǎn)生巨大的熱量。由于純鋁的熔點(diǎn)很低，只有660攝氏度，不但在外力的作用下靶材變形，局部還會(huì)達(dá)到熔點(diǎn)，形成溶洞；2。即便靶材不短路，如果冷卻系統(tǒng)出現(xiàn)問(wèn)題鋁靶材也容易變形；3磁控濺射。
三 ：