一：
光刻膠技術(shù)百科
問題1：什么是光刻膠以及光刻膠的種類
光刻膠答：光刻膠是一種有機化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會發(fā)生變化。一般光刻膠以液態(tài)涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固態(tài)。1、光刻膠的作用：a、將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面的氧化層中；b、在后續(xù)。
問題2：光刻膠是否與酸發(fā)生反應(yīng)?常見的光刻膠有哪些種類?主要成分是什么
答：光刻膠是有機物，與強氧化性的酸會反應(yīng)，如：濃HNO3，濃H2SO4。光刻膠種類：正膠，負膠成分有三種：溶劑，感光物，催化劑。
問題3：正性光刻膠與負性光刻膠對孔金屬化的優(yōu)缺點-問一問
答：你好，如果進行對比，正性光刻膠的精度會比負性光刻膠的精度更加的精確。負膠顯影后圖形有漲縮，負性膠限制在2~3μm，而正性膠的分辨力優(yōu)于05μm導(dǎo)致影響精度，正性膠則無這方面的影響。但是對于同一厚度的正負。
問題4：光刻膠危險嗎
光刻膠答：網(wǎng)上有人說：光刻膠的危害主要是溶劑，負膠的溶劑是二甲苯毒性很大，而且非水溶性，難不過顯影去膠用的是堿液，方便無毒?？傊眢w使自己，要好好愛惜！個人認為光刻膠一般不會有太多的傷害，因為你用的時候不。
問題5：光刻機殘留的光刻膠該如何處理才能去除干凈?
光刻膠答：等離子清洗機表面處理機應(yīng)用包括處理、灰化、改性、蝕刻等過程。選擇等離子清洗設(shè)備，不僅能徹底除去光刻膠和其他有機物，而且能激活晶圓表面，提高晶圓表面的潤濕性。聚合物、包括形狀不一的槽孔和狹長的孔洞內(nèi)的微粒，使用等離子。
問題6：光刻膠在曝光后可以見白光么?
答：可以。光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，受到光照后特性會發(fā)生改變，是微電子技術(shù)中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一，主要應(yīng)用于電子工業(yè)和印刷工業(yè)領(lǐng)域。
問題7：QD光刻膠和QD墨水的區(qū)別
答：QDCC墨水性能穩(wěn)定、打印流暢、膜縮率低。量子點光刻膠（QDPR）為UV負性光刻膠，主要組分為量子點、擴散粒子、樹脂、單體、溶劑、光引發(fā)劑和助劑。星爍QDCC墨水由經(jīng)特殊表面處理的量子點、UV固化高分子樹脂、光散射粒子等多。
問題8：JNC/JSR/KOlon光刻膠的特點與區(qū)別OC膠中,JNC/JSR/KOlon光刻膠的
答：光刻膠的主要成分有光刻膠樹脂、感光劑、溶劑和添加劑。光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì)，是用來將其它材料聚合在一起的粘合劑；光刻膠的粘附性、膠膜厚度等特性都是由樹脂決定的。感光劑是光刻膠的核心部分，它對光。
問題9：什么是光刻膠以及光刻膠的種類
答：光刻膠是一種有機化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會發(fā)生變化。一般光刻膠以液態(tài)涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固態(tài)。1、光刻膠的作用：a、將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面的氧化層中；b、在后續(xù)。
問題10：負性光刻膠的原理
光刻膠答：光刻膠在接受一定波長的光或者射線時,會相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵作用。光化學(xué)反應(yīng)中的光吸收是在化學(xué)鍵合中起作用的處于原子最外層的電子由基態(tài)轉(zhuǎn)入激勵態(tài)時引起的。對于有機物，基態(tài)與激勵態(tài)的能量差為3~6eV。
二：
光刻膠技術(shù)資料
問題1：光刻膠的作用
答：光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。光刻膠的作用就是作為抗刻蝕層保護襯底表面。光刻膠只是。
問題2：光刻膠的介紹
答：又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑（見光譜增感染料）和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。
問題3：國內(nèi)自己能生產(chǎn)的光刻膠企業(yè)有哪些?
答：一、晶瑞電材：公司是一家專業(yè)從事微電子化學(xué)品的產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè)，主導(dǎo)產(chǎn)品包括超凈高純試劑、光刻膠、功能性材料、鋰電池材料和基礎(chǔ)化工材料等。公司主要的優(yōu)質(zhì)客戶資源包括有研半導(dǎo)體、晶澳科技、三安。
問題4：pcb光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠的區(qū)別
光刻膠答：光刻膠是一種有機化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會發(fā)生變化。一般光刻膠以液態(tài)涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固態(tài)。1、光刻膠的作用：a、將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面的氧化層中；b、在后續(xù)。
問題5：光刻膠的成分對身體有哪些傷害
答：網(wǎng)上有人說：光刻膠的危害主要是溶劑，負膠的溶劑是二甲苯毒性很大，而且非水溶性，難不過顯影去膠用的是堿液，方便無毒?？傊眢w使自己，要好好愛惜！個人認為光刻膠一般不會有太多的傷害，因為你用的時候不是。
問題6：光刻膠中的eth和eop是什么意思
答：ETH是指曝光區(qū)域在顯影后膜厚為0的最低曝光量；EOP是指能圖形按1:1復(fù)制到光刻膠上的曝光量。希望對你有所幫助。
問題7：光刻膠勻膠后為什么要去除掉邊緣的光刻膠
光刻膠答：可能是勻膠后邊緣的光刻膠有堆膠現(xiàn)象，如果采用的是接觸式曝光，那么掩模板和晶片之間就會有間隙，造成曝光出現(xiàn)虛影，因此要去除掉邊緣的光刻膠。
問題8：光刻膠~~光刻膠的概念是什么?
答：光刻膠photoresist又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑（見光譜增感染料）和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性。
問題9：光刻膠的應(yīng)用
光刻膠答：模擬半導(dǎo)體（AnalogSemiconductors）發(fā)光二極管（Light-EmittingDiodesLEDs）微機電系統(tǒng)（MicroelectromechanicalSystemsMEMS）太陽能光伏（SolarPhotovoltaicsPV）微流道和生物芯片（Microfluidics&Biochips）光電子器件/光子器件。
問題10：光刻膠的氣味對人體有哪些危害?
答：網(wǎng)上有人說：光刻膠的危害主要是溶劑，負膠的溶劑是二甲苯毒性很大，而且非水溶性，難不過顯影去膠用的是堿液，方便無毒?？傊?，身體使自己，要好好愛惜！個人認為光刻膠一般不會有太多的傷害，因為你用的時候不。
三 ：